拓荆科技股份有限公司2027届校招

拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，2022年4月20日于上海证券交易所科创板上市，证券代码：688072。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。自成立以来，公司始终坚持自主研发、自主创新，一直在高端半导体专用设备领域持续深耕拓展，重点聚焦薄膜沉积设备和应用于三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备的研发与产业化。公司已在沈阳、上海、北京、海宁、青岛、美国、日本、新加坡等多地完成了各级子公司的设立和布局。公司建成了一支国际化、专业化的研发技术团队，专业知识储备深厚，产线验证经验丰富。公司目前已形成PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高密度等离子体化学气相沉积）、Flowable CVD（流动性化学气相沉积）等薄膜沉积设备产品，以及晶圆对晶圆混合键合、晶圆对晶圆熔融键合、芯片对晶圆混合键合等三维集成设备产品，已广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、功率器件、Micro - OLED、硅光技术、图像传感器（CIS）等领域。

拓荆科技股份有限公司是国家高新技术企业，于2022年4月20日在上海证券交易所科创板上市（证券代码：688072）。公司专注于高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，业务聚焦薄膜沉积设备和先进键合设备及配套量检测设备等。目前已在多地完成子公司布局，拥有国际化、专业化的研发团队，产品广泛应用于多个领域。现面向社会招聘人才，工作城市包括沈阳、上海、北京、海宁、青岛等。具体招聘职位、学历要求、薪资范围等信息暂未公布，请持续关注公司后续招聘动态。